Оборудование для плазменного напыления
В основе процесса плазменного напыления лежит использование скрытой 
теплоты ионизированного газа, используемого в качестве источника тепла для нагрева частиц напыляемого материала. Наиболее часто испольуется аргон, называемый также первичным газом.
Подробнее о процессе плазменного напыления
Предлагаемое оборудование для плазменного напыления:
Система AP-50
Цифровая система AP-50, построенная по самым высоким стандартам с использованием последних достижений в области управления процессами
Система AP-25i
Полуавтоматическая система. Качество и безопасность по разумной цене.
Мультипроцессная система MP-50
Цифровая система для нескольких процессов газотермического напыления. Непревзойденный контроль за процессом и гибкость.